RTF反转电解铜箔

简短描述:

反转电解铜箔(RTF)是铜箔两面都经过不同程度粗化处理的铜箔。这样就同时加强了铜箔两面的抗剥离强度,使其更容易做为中间层与其它材质相贴合。而且,这种铜箔的两面处理程度不同,使得其粗化层较薄的一面更容易被蚀刻。在制作印刷电路板(PCB)面板的过程中,铜的处理面被贴在电介质材料上。经过处理的鼓面比另一面更粗糙,这就构成了对电介质更大的附着力。这是较标准电解铜的主要优势。哑光面在应用光刻胶之前不需要任何机械或化学处理。它已经足够粗糙,可以有良好的层压抗蚀剂附着力。


产品详情

产品标签

产品规格 :

铭珏可提供名义厚度12~35µm的RTF电解铜箔,最大宽度可为1295mm。

产品性能:

高温延伸率经反面处理后的电解铜箔,经过精确的电镀制程,控制铜瘤大小,并均匀分布,经反面处理过铜箔亮面,可大幅降低铜箔压合面的粗糙度,并提供足够的铜箔抗剥离强度。(见表一)

产品用途:

可被用于高频产品和内层薄板,如5G基站和汽车雷达等设备。

使用优点:

拥有良好的结合力,可直接进行多层压合,蚀刻性能佳。同时可降低短路隐患,并可缩短制程周期。

表1:标准轮廓(S)高温延展性(HTE)铜箔特性(执行 GB/T5230-2000、IPC-4562A-2000等标准)

项目

单位

1/3OZ

(12μm)

1/2OZ

(18μm)

1OZ

(35μm)

铜含量

%

min. 99.8

单位面积重量

g/m2

107±3

153±5

283±5

抗拉强度

R.T.(25℃)

Kg/mm2

min. 28.0

H.T.(180℃)

min. 15.0

min. 15.0

min. 18.0

延伸率

R.T.(25℃)

%

min. 5.0

min. 6.0

min. 8.0

H.T.(180℃)

min. 6.0

表面粗糙度

光面(Ra)

μm

max. 0.6/4.0

max. 0.7/5.0

max. 0.8/6.0

毛面(Rz)

max. 0.6/4.0

max. 0.7/5.0

max. 0.8/6.0

剥离强度

R.T.(23℃)

Kg/cm

min. 1.1

min. 1.2

min. 1.5

耐药品性(18%-1hr/25℃)

%

max. 5.0

高温防氧化(E-1.0hr/190℃)

%

None

耐浸焊290℃

Sec.

max. 20

针孔

EA

Zero

基材

----

FR-4

注:1.铜箔毛面Rz值为测试稳定值,不做保证值。

       2.剥离强度为标准FR-4板测试值(5张7628PP)。

       3.品质保证期限自收货日起90天。


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